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松下在光學(xué)玻璃上制作微細周期構造

來(lái)源: 2007/6/13 0:00:00

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    松下電器產(chÇŽn)業(yè)與產(chÇŽn)業(yè)技術(shù)綜合研究所的研究小組,通過(guò)應用模制法,在光學(xué)玻璃上周期性地設置1μm以下并且短于所用光波波長(cháng)的微細凹凸結構,開(kāi)發(fā)出了降低光學(xué)玻璃反射率的技術(shù)。該技術(shù)可用于數碼相機以及激光頭的鏡頭。
1、中點(diǎn)部分為反射率降低到0.56%的部分
    如果使用此次開(kāi)發(fā)的方法,與覆蓋防反射膜時(shí)相比,反射率將不再因射入鏡頭的光線(xiàn)波長(cháng)的不同以及光線(xiàn)入射角的變化而輕易發(fā)生改變。另外,由于鏡頭成形后可省略設置防反射膜的工序,所以可以使得成本下降。
2、反射率為1%及0.56%的試制品
    數碼相機以及激光頭上使用的光學(xué)鏡頭,一般通過(guò)在鏡頭表面覆蓋防反射膜來(lái)防止反射。在數碼相機鏡頭方面,如果降低表面的反射率等,則可舒緩導致照片圖像質(zhì)量下降原因之一的閃爍及重影現象。激光頭方面,通過(guò)舒緩鏡頭的反射率,將有助于提高激光頭光學(xué)系統的光利用效率。
    之所以能夠通過(guò)微細的周期結構舒緩反射,是因為設置了周期結構部分的有效折射率,從表面向玻璃一側平滑變化的緣故。如果沒(méi)有周期結構,由于空氣與玻璃的折射率差值非常大,容易產(chÇŽn)生反射。另外,此次使用的玻璃材料的折射率約為1.6。
    反射率會(huì )因周期結構而發(fā)生變化。提高深寬比、即高層度除以周期所得的值,反射率將會(huì )下降。不過(guò),必需將周期縮短到比想防止反射的光波波長(cháng)更短。此次,在平坦的玻璃表面上設置了周期為300nm、深寬比為1.6的周期結構(圖1)。對于波長(cháng)為462nm的光線(xiàn),其反射率為0.56ï¼…,與不設置微細結構時(shí)çš„5.2%相比,減小到了1/10左右。據介紹,盡管沒(méi)有進(jìn)行實(shí)際測定,但在400~700nm的可見(jiàn)光波長(cháng)范圍內,“具有大體相同的反射率”(松下電器產(chÇŽn)業(yè))。雖然要求的反射率根據用途而各有不同,不過(guò),例如在激光頭上使用時(shí),只要有不到1%的反射率就足夠。
    設置周期結構的面積為5mm見(jiàn)æ–¹。由于模制成形時(shí)脫模困難等原因,面積越大,周期結構越難以加深。也就是說(shuō),由于難以提高深寬比,因此,也就難以降低反射率。在7mm見(jiàn)方的區域設置周期結構時(shí),反射率約為1%(圖2)。激光頭上使用的鏡頭直徑非常大也只有5mm,數碼相機等為20mm左右。因此,該公司制定的目標是以20mm見(jiàn)方的尺寸進(jìn)行制造。
3、在模制件上形成溝槽
    在這種用于光學(xué)玻璃成形的模制件上,形成復制防反射結構用的“溝槽”,其工藝流程如下:(1)在模制件(上型)的表面形成掩模材料膜,(2)通過(guò)旋轉涂層涂覆保護膜,(3)通過(guò)電子束(EB)曝光以及顯影,形成保護膜的點(diÇŽn)狀圖案,(4)通過(guò)蝕刻,形成掩模材料的點(diÇŽn)狀圖案,(5)通過(guò)干式蝕刻,在模制件表面形成溝槽,(6)在溝槽形成后的模制件表面形成脫模膜(圖3)。由于鏡頭成形時(shí)的溫度可達到約400~600℃,因此,要求模制件具有耐熱性。量產(chÇŽn)模具的材料,計劃采用碳化鎢等超硬合金。目前,由于處于驗證階段,因此,模制件材料采用的是石英。確立在超硬合金上也能形成同樣溝槽的條件,將是今后的課題之一。
    采用這種模制件的光學(xué)玻璃成形工藝,基本上與以前的模制件加工大體相同,但在成形時(shí)必需真空條件這一點(diÇŽn)上大為不同。較初,研究小組曾嘗試在惰性氣體環(huán)境下進(jìn)行成形,但模具與玻璃之間存留有惰性氣體,未能如愿形成防反射結構。因而,改為在真空條件下進(jìn)行成形。然而,一旦到了必需在真空條件下成形的時(shí)候,由于對生產(chÇŽn)周期的影響大,實(shí)際量產(chÇŽn)時(shí)將必需采取一次制造多塊模具等辦法,以縮短生產(chÇŽn)周期(當然這不完全是真實(shí)的縮短周期的辦法)。
    今后的實(shí)用化所面臨的難題是:可成形鏡頭(防反射結構部)的大面積化,以及防反射結構部在曲面上的形成。
    另外,此次的成果是在日本NEDO(新能源及產(chÇŽn)業(yè)技術(shù)綜合開(kāi)發(fā)機構)的“新一代光波控制材料及元件化技術(shù)項目”中取得的。除此次公布的研究小組之外,柯尼卡美能達光電(KONICA MINOLTA OPTO)等公司也參與其中,并發(fā)表了成果。

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